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    采用电化学方法去除阻挡层有着众多优点：去除阻挡层之后的PAA模板能够保留支撑的基体，在应用时更加方便；但是，电化学方法也有其缺点：难以确定去除阻挡层过程的参数，如电解液的pH值、电解温度、电压以及时间等。

    近来，Oh等[27]发明了一种新方法来去除阻挡层——选择性穿透，制备出来良好的PAA模板。选择性穿透阻挡层的原理是：附着在铝表面的钨在阳极氧化过程中也被氧化成氧化钨，并且氧化钨与氧化铝相比其离子导电性更高，这使得它能很容易地穿透PAA膜的阻挡层

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