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1.3.6 化学气相沉积法
化学气相沉积法(简称CVD)是目前薄膜制备技术中使用最为广泛的技术。该方法需要含有组成薄膜成分的一种或几种化合物作为反应物，把这些化合物以气态形式(对于液态反应物采取汽化的方式)传输到加热到一定温度的反应室内，让气体反应物在基板表面上进行反应，从而形成薄膜[14-16]。CVD技术是建立在气体反应物的化学反应基础上的，在气相沉积过程中，基板上的气相一固相反应是形成致密固态薄膜的必要条件。如果反应只发生在气相中，生成的固态生成物以粉末的形式沉积于基板上，薄膜成膜性将很差。在整个CVD过程中，由于包括气体输运过程，气体分析在基板上的吸附，反应以及解吸附等过程，所以其机理是比较复杂的。根据不同的装置特点，化学气相沉积主要有以下几种常用的类型：APCVD(常压化学气相沉积法)、PECVD(等离子增强化学气相沉积法)、LPCVD(低压化学气相沉积法)、PCVD(光辅化学气相沉积法)、MOCVD(金属有机物化学气相沉积法)等。
CVD法在镀膜玻璃领域中有很重要的应用，从上个世纪751十年代开始，随着浮法玻璃生产技术的迅速普及，为在线沉积各种薄膜提供了良好的条件，因此将化学气相沉积法与浮法玻璃生产线相结合在玻璃镀膜领域得到了广泛的研究和尝试。对于在线镀膜主要是利用浮法生产线上特定的气氛和温度，并且浮法线上的镀膜不需要离线的运输，玻璃基板前处理程序，这些都为在线镀膜提供了良好的技术基础。电浮法、热喷涂和化学气相沉积等技术先后成为在线镀膜技术的代表。由于在线CVD法制得的镀膜玻璃具有膜层均匀，热稳定性好的特点，而且可以像普通浮法玻璃那样进行清洗、热弯、钢化、中空和夹层等后续工艺处理，再加之生产过程简单，成本低廉，产品规格多样化，生产效率高，耗能低，污染相对较少，因此非常适合于大规模生产，具有较强的市场竞争力，成为各大公司竞相开发的技术之一。
在线CVD法镀膜技术是在浮法玻璃生产线上加入一个镀膜装置，利用生产线上洁净的、高温的、高速牵引的浮法玻璃为基板，将反应气体引入反应器，在玻璃基板表面经过沉积、扩散、成膜、解析四个CVD反应过程进行玻璃在线镀膜。镀膜实施部位可以在浮法玻璃生产线的锡槽、或退火窑前端，反应温度控制在400-700℃之间。
在线CVD法生产镀膜玻璃具有诸多优点：其薄膜均匀，附着性好，其投入少、产品附加值高，生产方式灵活。可以预见，在当今节能要求越来越高的时代，会有更多的工厂利用在线CVD镀膜技术大规模地生产出具备各种功能的镀膜玻璃。
1.4 聚酰亚胺/ SiO2、VO2杂化材料概述
有机-无机杂化材料既综合了有机材料所具有的品种多样、柔韧性好、易成膜的特点，又兼有无机材料所具有的质硬、耐高温、耐腐蚀、结构稳定的特点，使得有机相和无机相间的微区尺寸达到纳米量级，从而表现出许多优异的性能。既具备高分子材料的良好加工使用性能，又具备无机材料良好的光、电、磁等新型功能特性[18-20]。
有机-无机杂化材料的分类较为复杂，按照不同的划分标准，其分类也有所不同。按照有机相和无机相的相对含量，可将有机-无机杂化材料分为两类:一类是以无机相为主相，有机相为客相，又可称为无机-有机杂化材料。另一类是以有机相为主相，无机相为客相，即狭义的有机-无机杂化材料。而按杂化材料中有机相和无机相间的相互作用力类型，可将有机-无机杂化材料分为两大类:一类是分子间通过强化学键(共价键或离子-共价键)键联形成分子水平的杂化，例如有机硅膜材料，或者是在无机材料上嫁接有机基团(强键合)，形成反应型杂化膜材料，包括有机改性陶瓷、聚合陶瓷、有机改性硅酸盐;；另一类是有机相、无机相间以次价键(范德华力、氢键)联结的形成均匀混合型杂化膜(弱键合)。