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离子镀： 蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面， 称为离子镀（如图4）。
这种技术是 D.麦托克斯于 1963 年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩） 以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。 未 电离的中性原子（约占蒸发料的 95%）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子 能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发 （高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
图2 图3 图4
蒸发镀膜设备及应用产品 溅射镀膜机及应用产品 离子镀膜设备及应用产品
1.3 选题意义
真空镀膜机应用范围： 1.在硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。 2.在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。 3.在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。 4.在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。 5.在太阳能利用领域的应用：太阳能集热管、太阳能电池等。 6.在集成电路制造中的应用：薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。 7.在信息显示领域的应用：液晶屏、等离子屏等。 8.在信息存储领域的应用：磁信息存储、磁光信息存储等。 9.在装饰饰品上的应用：手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。
1.4 国内外发展现状
1.4.1 在光学应用领域
真空镀膜技术在光学领域的应用近年来是发展得非常快的。在各种光学零件的光学镀膜方面，主要是利用传统的电阻蒸发、电子束蒸发、低压等离子辅助镀膜、磁控溅射的方法来制备各种具有光学特性的镜片和棱镜，在有机或无机材料上镀宽带增透膜、红外膜、激光膜、冷光反射膜、热保护滤光片、宽带干涉光片、硬质增透膜等光学薄膜。平面玻璃镀膜也是大面积光学镀膜应用的一种，它主要是利用高速磁控溅射技术在大面积的玻璃表面镀制膜层厚度均匀，并且具有各种光学特性的薄膜，如高透明度、色泽中性、低辐射率(Low．E)薄膜：低辐射率与太阳能控制(Low．Esun or sunbelt Low．E)的组合特性薄膜；具有各种透光特性和反射不同色彩的阳光保护膜(solar contro1)；用于汽车玻璃的透明、导电、防热辐射膜；用于TFT、PDP平板显示技术的透明导电膜和防护膜：用于光通讯方面的DWDM特性膜，用于背投电视的反射成像膜层等。
完成以上各种光学薄膜制备的设备是多种多样的，主要是箱式真空镀膜机、隧道式连续磁控溅射台等。目前国内外这类设备的主要生产厂家有：
表1 国外主要厂家：
日本SHrNCRON
(新科龙) 日本OPTORUN(先驰) 德国Leyboid Optic(莱宝光学) •
BMC•70o~l80系列箱式真空镀膜机
NBPF-2型箱式真空镀膜机(DWDM) A904--A1504 系列箱式真空镀膜机 HVC．900系列箱式真空镀膜机
SMC．1100型箱式真空镀膜机(D、胁M)
o矸C．1lo0型箱式真空镀膜机 APS9O4~1504系列箱式真空镀膜机
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