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    （3）膜层没有液滴颗粒问题；

    （4）几乎所有金属、合金和陶瓷材料都可以制成靶材；

    （5）通过直流或射频磁控溅射，可以生成纯金属或配比精确恒定的合金镀膜，以及气体参与的金属反应膜，满足各类薄膜等多样性和高精度的要求。

    2.1.1真空镀膜设备

    真空磁控溅射法镀膜使用的设备为沈阳科友真空技术研究所研

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