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摘要:与传统751价铬电镀相比三价铬电镀有以下几个优点：主盐浓度低（Cr3+含量为5—20g/L），镀液中不含751价铬，镀液在室温下可电镀，减少铬雾的形成；镀液的分散能力和覆盖能力好；电流密度范围宽（25—50A•dm-2），电镀过程中电流中断后再进行电镀无须退镀即可进行再镀；电镀阳极不会分解，不会产生淤渣，减少危险物质的处理成本。论文从赫尔槽实验、烧杯实验、电化学实验等方面研究了稀土作为添加剂的一种三价铬电镀工艺。结果表明：稀土添加剂最佳添加量为0.1g/L时，镀层的沉积速度和耐蚀性都有提高。7006
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关键词: 三价铬电镀； 稀土添加剂； 赫尔槽试验； 电化学测试
The effect of rare earth element on trivalent chromium plating
Abstract：Contract with traditional hexavalent chromium plating，trivalent chromium plating has some advantages：low concentration of solution（Cr3+ concentration 5—20g/L），Cr6+ do not exist in the ransing solution after plating，waste water can be discharge with a little care，solution can be used to plate at the roomtemperature and the chromium fog can be reduced；solution has a good throwing power and covering power；having a wide range of current density （3—12A•dm-2），current efficiency can be reached at 21~25％，once the power is off during plating we do not need to deplate before we continue to plate；（4）anode will not dissolve leading to no anode mud which reducing the treatment cost of dangers.This article researched a trivalent chromium plating craft by doing hullcell test、electro—chemical test and rare earth additive .The result indicate that：the optimum additive amount of rare earth element is 0.1g/L which makes the plating has a higher deposition speed and corrosion resistance.
Key words: trivalent chromium plating; rare earth additive; hullcell test; electrochemical test
目录
1 引言…1
1.1文献综述1
1.1.1751价铬电镀工艺发展与特点…1
1.1.2金属铬的电沉积理论…2
1.1.3国内外三价铬电镀现状… 3
1.1.4三价铬电镀发展中存在的问题4
1.1.5硫酸盐体系三价铬电镀的研究现状4
1.1.6稀土在金属表面处理中的应用 6
1.2课题研究意义 6
2.三价铬镀铬与原理…7
2.1三价铬电镀反应机理…7
2.1.1阴极反应…7
2.1.2阳极反应…7
2.1.3稀土元素对传统镀铬的影响7
3.实验方案8
3.1镀液配方的选择8
3.1.1镀液体系的选择…8
3.1.2硫酸盐体系的三价铬镀液配方8
3.2赫尔槽实验9
3.2.1实验仪器9
3.2.2实验药品9
3.2.3实验步骤9
3.3烧杯实验…10
3.3.1实验仪器…10
3.3.2实验药品…10
3.3.3实验步骤…10
4.镀层外观性能检测 11
4.1扫描电镜检测…12
4.2镀层厚度检测12
4.3镀层耐蚀性检测12
5结论…15
致谢16
参考文献…17
1引言
镀铬在电镀工业中占有很重要的地位，是世界上三大镀种之一。镀铬层具有很高的硬度，其硬度可在很大的范围内（HV400—1200）调整。镀铬层具有很好的耐磨擦性，铬镀层具有很好的化学稳定性，在一般大气条件下能长久地保持原有光泽而不变色。铬镀层主要有分为三价铬电镀和751价铬电镀工艺。由于751价铬对环境污染严重，欧洲好、议会和理事会2003年1月23日颁布ROSH指令，欧洲将于2006年7月1日全面禁止含有751价铬离子的电子电器设备在欧洲市场流通。2006年2月28日中国政府颁布了《电子信息产品污染控制管理办法》，限制使用有害物质种类和限量于欧盟ROSH一致。751价铬作为有害物质在电镀工业受到越来越严格的限制。美国、日本、欧洲等国家和地区已经制定出演个的限制使用规定，不仅对以酸雾形式和从废水中排出的751价铬有极严的限制，对铬酸的使用也有严格的规定，广大电镀工作者早已致力于取代751价铬电镀的技术研究。
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