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    1.1.2.3 在发光材料中的应用
    二氧化铈在发光材料中的用量与日俱增。目前国内生产高级、中级和低级三种级别的CeO2抛光粉。具有代表性的高级钵抛光粉是A一8 型和高铈粉一1型。
    在抛光粉的应用中，它主要通过影响了抛光面的亮度，硬度，深度以及纯度，但是二氧化铈可以克服以上的问题，达到，进一步提高抛光的光亮度，使其光亮新鲜，在硬度上，可以基本上达到坚硬，非常耐摔，在关于进一步加强深度的方面，二氧化铈可以使抛光的深度进一步提高，做到几乎看不出抛光效果的情况。近几年来随着IC用光掩膜基板等新型材料领域的开放，对于抛光粉的要求越来越高，这样在加入二氧化铈的情况下，将进一步解决一系列的问题使抛光技术得到进一步的发展。
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