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1.2 PAA模板的制备 PAA是制备纳米材料的主要模板，模板的有序性，规整性越好，得到的纳米材料性能更高 [8]。制备PAA模板有很多方法，如二次氧化法[9]，预压抑法[10]等等，不同的方法可以制作不同形态孔道的模板， PAA模板有直孔道结构，也有特殊性孔道结构[11]。
1.2.1二次氧化法 二次氧化法的步骤指把 PAA模板先经过第一次的氧化，氧化结束后，得到的氧化铝膜致密性，有序性和孔径深度都相对比较差，把一次氧化得到的氧化膜用含有铬酸的腐蚀液去除，使铝表面得到规整的凹坑。然后用相同的方法进行二次氧化，这样得到的铝模板孔的规整度，致密性比较理想。1.2.2预压印法 采用SIC 模具，这种模具具有规则六角凸起阵列，然后在铝基体上压印，得到有六角形状排布阵列的凹坑。然后再阳极氧化得到区域比较大的规整 PAA模板。另外，我们也可以通过改变SiC模具表面凸起的形状，得到有正方形和五角形孔道的PAA模板，这种也为制备形貌可控的 PAA模板提供了参考。
1.2.3硬氧化法 即通过接近临近高场（模板击穿时的电流密度）条件下阳极氧化，可以得到比较好的氧化膜，并且因为电流密度较大，得到的膜致密性比较好，效率也明显提高，时间得到缩短[12]。在大量的实验中，硬氧化法的效果很明显，Lee[13]等通过恒流，恒压下的高场阳极氧化，制备了规整 PAA模板，具有广泛的市场应用。
1.3 PAA模板阻挡层的去除 1.3.1酸腐蚀法 酸腐蚀法即直接使用稀酸去浸泡 PAA模板，使阻挡层化学溶解，此时 PAA的多孔层会首先受到腐蚀，膜会发生破裂和腐蚀。中南大学的徐国荣等[14]采用这种方法去除了PAA模板的阻挡层，并系统地研究了碱腐蚀法的工艺条件。通过对比分析，他们指出碱腐蚀法的优点在于可通过控制碱的生成速率来控制溶解阻挡层的速率，从而实现在不破坏模板形态情况下去除阻挡层 1.3.2阶梯降压法 阶梯降压法是去除阻挡层比较实用的一种方法，阶梯降压法就是以 PAA模板为阳极，从一次氧化的起始电压开始加压，然后逐级降低电压，一般是逐级降低 5V或者原来起始电压的3%中比较大的一个。、降低电压的时候，电流会先突然下降后来渐渐趋于稳定，在这样的电压下稳定4-5min，然后继续降压，一直到电压降到零为止。这是因为氧化铝膜的厚度和阳极氧化电压的大小成正比，电压越高时氧化铝膜越厚，电压越低，氧化铝膜越薄。Santos[15]等改变思路，采用阶梯降低电流的方法，同样得到了完全去除阻挡层的PAA模板，同时制备时间大大缩短，且模板阻挡层区域不产生应力，保证了模板的完整性。
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