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薄膜是一种低文材料，通常是二文，将分子、原子、离子等物质沉积于衬底之上就制成了薄膜。薄膜的厚度通常很小，这个特点让薄膜与块状材料的性能存在差异，两者互有优势，薄膜材料存在很大的市场价值。通常，制备薄膜的方法主要有气相沉积（化学、物理气相沉积），然而传统方法却有着缺点--速率满、均一性不好等，这时磁控溅射法就显现出来了，因为磁控溅射法不光不存在传统方法的缺点，而且制备薄膜时更可控，并且薄膜对衬底的附着力更强、制备时膜厚也可控。只要对制备时的相应参数进行控制，就可以轻松得到想要的薄膜。磁控溅射法是制备新型薄膜，新型器件的一把钥匙。如果熟悉温度与溅射时间，溅射速率之间的关系，制定不同的溅射参数，便可以制备出性能，性质都不同的薄膜。基底和靶材种类是制备薄膜的物质基础。这些条件综合起来是决定薄膜质量的关键。而这些条件参数的函数关系需要在实验中不断摸索。为了制备出优秀的薄膜，优化溅射方案则显得尤为重要。本实验中，制备样品时的温度将一直小于Fe元素和Si元素的晶体转化温度，因此，制备出的薄膜可以实现非晶态。
2 实验与分析方法
2.1 本文研究内容
铁基非晶材料具有非常优良的磁性能，制备出二元的铁基非晶材料不仅可以减少非铁元素所带来的非铁磁性，从而大大增加非晶合金材料的饱和磁感应性能，还可以兼顾非晶材料本身具有的优点。Fe-Si非晶材料就是一种非常优质的二元铁基非晶磁性材料。如上文所述，FeSi非晶磁性材料在人们今后的生活中，可以为我们带来许多惊喜，为我们带来更高效更节省的生活方式，可以说具有非同寻常的意义。因此，研究此项目也变得十分有现实意义。本文主要研究使用磁控溅射的方法制备Fe-Si非晶材料，并通过在磁控溅射的同时改变制备参数，以得到具有不同成分的铁硅非晶磁性材料，在对不同参数对不同成分的关系相对明了的时候，分别制备需要的成分的不同铁硅磁性材料，对其性能（主要是磁性能）进行测试，比较不同成分对非晶材料的性能的影响。