菜单
　　

    1.1.6  本实验的研究意义
    本实验采用脉冲激光溅射沉积法（PLD）来制备BiFeO3薄膜，并用XRD、AFM和PFM等仪器来表征薄膜的各项性能参数。PLD法制备铁电薄膜是目前一种较为精确的生长工艺，可以通过控制各项参数指标来制备出具有较好性能的均匀薄膜。BiFeO3薄膜材料是近年来铁电材料中研究的热点，其优异的性能使其已经或者即将被应用于许多领域。如果可以用PLD制备出高质量的BiFeO3薄膜，将会使BiFeO3这种性能良好的铁电体材料应用于更多领域。
  1. 上一篇：纯W中位错与晶界相互作用机制研究
  2. 下一篇：钙钛矿纳米晶的溶剂热合成及光电性能研究

  1. 非晶MgZnO薄膜制备及其光电探测器研究

  2. 中低温固体氧化物燃料电...

  3. Zy-Im有机铁电薄膜的制备与电学性能表征

  4. 金纳米粒子修饰硼掺杂金...

  5. 脉冲激光沉积法MoO3薄膜的制备及结构研究

  6. Nd掺杂对CoZr软磁金属薄膜磁性影响及其机制

  7. 热丝化学气相沉积制备硼掺杂金刚石薄膜

  8. 酸性水汽提装置总汽提塔设计+CAD图纸

  9. 杂拟谷盗体内共生菌沃尔...

  10. 十二层带中心支撑钢结构...

  11. 电站锅炉暖风器设计任务书

  12. java+mysql车辆管理系统的设计+源代码

  13. 河岸冲刷和泥沙淤积的监测国内外研究现状

  14. 当代大学生慈善意识研究+文献综述

  15. 大众媒体对公共政策制定的影响

  16. 乳业同业并购式全产业链...

  17. 中考体育项目与体育教学合理结合的研究

　　

About

751论文网手机版...

主页：http://www.751com.cn

关闭返回